AATCC/CITDA将举办设计讲座

美国纺织化学家和染色家协会（AATCC）和美国纺织品计算机设计应用协会（CITDA）将于6月14—15日在纽约时装技术学院举办第2届CITDA讲座。讲座将针对CAD设计师、CAM管理人员、纺织和服装设计师、造型师、设计技术提供商、学术界人士以及时装和家庭装饰管理人员。

到目前已经确认的讲座有：

－ 伦敦时装学院Ceri Isaac的讲座，题目为“量身定做与个性化印花”；
－ Optimyze公司Nancy Johnson的讲座，题为“商务变革与技术：缺一不可”；
－ 国际纺织集团Daphne O’Brien的讲座，题为“迈向现实”；
－ Fabrics 2 Dye 4的Barbara Burger的讲座，题为“数字印花：什么是可能的，什么是不可能的，如何让它为你所用”；
－ Lectra公司Christine Jean-Struss的讲座，题为“图像与数据管理解决方案：对开发过程提供有效支持”；
－ Paula Zanger设计公司Paula Zanger的讲演，题目为“有机：奢华概念”；
－ Stephens学院Mary Ruppert的讲座，题为“巴黎美国艺术学院的夏季时装研究”；
－ EAT公司Oliver Meier的讲座题目是“花边CAD系统”。

在座谈会期间还将举办圆桌讨论会，重点讨论现有和专有软件的利与弊。另外，一些CAD/CAM软件技术以及数据和色彩管理系统提供商还将介绍他们的产品。